Dificultad ●○○–●●●, pistas sin soluciones cerradas. La brújula de este curso es corta y cara. Primero, y es el error que más simulaciones ha echado a perder: la longitud de onda que fija la rejilla es la del medio, no la del vacío. A 1550 nm dentro de silicio ( = 3,48) la onda mide 445 nm, así que la regla de «10 a 20 celdas por λ» pide un 3,48 veces menor de lo que parece — y en 3D eso son 3,48⁴ ≈ 150 veces más coste. Un cálculo con la λ del vacío no avisa: converge, sale bonito y está mal. Segundo: la condición CFL la fija la velocidad máxima del dominio, que es la del vacío, no la del material más lento. Dividir por da un demasiado grande y la simulación explota en el aire, no en el silicio. Tercero, y es el más sutil: convergencia no es exactitud. Refinar la malla te lleva a la respuesta de tu modelo, con su geometría escalonada, su material tabulado y su dominio truncado; que dos rejillas coincidan no dice nada sobre si el modelo es el problema. Por eso todo lo de este curso se valida contra Mie o contra la Transfer Matrix antes de creérselo.
Quieres simular con FDTD un tramo de guía de silicio ( = 3,48) sobre óxido, a 1550 nm, en un dominio 2D de 6 µm × 4 µm, dejando correr el campo 2 ps. (a) ¿Qué te pide la regla de las 20 celdas por longitud de onda, y cuánto te habría salido si tomas la λ del vacío? (b) Con = 20 nm, calcula el número de celdas, el paso temporal por CFL, los pasos necesarios y las actualizaciones de celda totales. ¿Cuánta memoria come? (c) Repite el presupuesto en 3D con un dominio de 6 µm × 4 µm × 4 µm. ¿Por cuánto se multiplica el coste, y por qué el factor no es simplemente el número de celdas nuevas?
Pista
Primero la dentro del material, , y de ahí ; después celdas por eje, por CFL y pasos.
Ojo: la CFL lleva la velocidad máxima del dominio, la del vacío, no ; con el paso sale veces mayor y revienta en el aire.
Comprueba el paso: la CFL es más restrictiva en 3D, así que si no baja al añadir el tercer eje, has puesto donde iba .
El artículo 02 dedujo la matriz característica de una capa y la fórmula del coeficiente de reflexión del apilamiento, y luego se contentó con dejar que el simulador las evaluara. Hazlo a mano. (a) Escribe para una capa de espesor óptico —es decir — y sustitúyela en la fórmula de para demostrar que . (b) Evalúala para MgF₂ ( = 1,38) sobre vidrio ( = 1,52) y compárala con el 1,3 % que da el ejercicio 1 de aquel artículo. (c) ¿Qué dice la fórmula sobre el índice ideal, y cuánto vale sin recubrir?
Pista
Con la matriz se queda antidiagonal; mete sus cuatro elementos en la fórmula de y multiplica arriba y abajo por .
Ojo: el espesor óptico es , no ; fuera de la longitud de diseño la matriz recupera su diagonal.
Contrasta (b) con el ejercicio 1 del artículo 02: fórmula cerrada y simulador tienen que dar el mismo número.
Este problema retoma el antirreflejante del problema anterior y el objetivo fotográfico que el artículo 02 menciona de pasada. (a) Multiplica las matrices de dos capas de cuarto de onda, de índices (la exterior) y , y demuestra que la reflexión se anula exactamente cuando . (b) Con = 1,38 (MgF₂), ¿qué material haría falta debajo? ¿Cuánto vale con el par 1,38/1,70? (c) Un objetivo de nueve lentes tiene 18 superficies vidrio-aire. Calcula la transmisión total sin recubrir, con monocapa de MgF₂ y con una multicapa moderna de 0,2 % por cara. (d) ¿Adónde va la luz que no se transmite, y por qué eso importa más que la pérdida?
Pista
El producto de dos matrices antidiagonales es diagonal, así que sale en una línea; para (c), eleva la transmisión de una cara a la 18.
Ojo: la transmisión es , no ; con seis superficies más, la segunda cuenta llega a dar negativa.
Comprueba (a) en el límite: con la condición tiene que degenerar en la de una sola capa del problema 2.
Hay que calcular el espectro de extinción y el campo cercano de un nanocubo de plata de 60 nm de arista a 400 nm, donde su índice complejo es = 0,17 + 1,95. (a) Aplica el criterio del artículo 05: ¿qué espaciado máximo entre dipolos permite, y cuántos dipolos por arista son? (b) Mira el número que te ha salido y decide si el criterio basta. ¿Qué otra cosa fija en realidad la discretización de este objeto? (c) Con = 2 nm, cuenta las incógnitas y la memoria de la matriz densa de DDA. (d) Haz el mismo recuento con BEM, mallando la superficie con triángulos de 3 nm de lado. ¿Cuál eliges y por qué?
Pista
Aplica el criterio con y , mira cuántos dipolos por arista deja y decide si un cubo cabe ahí; luego cuenta incógnitas y memoria.
Ojo: es el módulo del índice complejo, no su parte real; con 0,17 el espaciado sale once veces mayor.
Comprueba BEM contra el ejercicio 1 del artículo 07: si no cuadra, revisa el área del triángulo equilátero, y no .
Se simula con FDTD la resonancia de un microdisco de silicio y, refinando la rejilla, se obtiene = 1548,2 nm con = 20 nm, 1551,0 nm con 10 nm y 1551,7 nm con 5 nm. (a) Deduce del propio conjunto de datos el orden de convergencia observado. ¿Coincide con el que promete FDTD? (b) Usa la extrapolación de Richardson para estimar el resultado a rejilla cero, y di cuánto error arrastra la corrida más fina. (c) ¿Qué haría falta para bajar el error a 0,05 nm por fuerza bruta, y cuánto costaría en 3D? ¿Y con DGTD de orden = 3? (d) ¿Qué habría que sospechar si el cociente de diferencias sucesivas no hubiera salido tan limpio?
Pista
Al dividir por dos, las diferencias sucesivas van en razón : de ahí sale medido, no supuesto, y con él Richardson da el límite a rejilla cero.
Ojo: DGTD de orden converge como , no como ; confundirlo dobla el refinamiento que le pides.
Comprueba el signo: el valor extrapolado tiene que caer fuera de las tres corridas; si cae entre dos, has sumado la corrección al revés.
El problema 2 dejó pendiente algo incómodo: el antirreflejante perfecto aire-vidrio pide = 1,233 y no hay ningún material sólido con ese índice. La naturaleza lo resolvió hace cien millones de años: el ojo de las polillas nocturnas está cubierto de conos submicrométricos. (a) Para que el conjunto se comporte como un medio homogéneo y no como una rejilla de difracción, ¿qué periodo máximo admite si el sustrato tiene = 1,52 y hay que cubrir hasta 400 nm? (b) Modela un cono como cinco láminas de fracción de volumen de vidrio decreciente y calcula el índice efectivo de cada una con Bruggeman. ¿Qué índice sale a media altura, y con qué se parece? (c) ¿Qué altura mínima necesita el cono, y por qué? (d) Un fabricante escala el molde a = 280 nm para abaratar la litografía. ¿Qué le pasa a su antirreflejante?
Pista
Lee la ecuación de la rejilla al revés, como condición de no difracción: ningún orden salvo el cero puede propagarse. En (b), Bruggeman lámina a lámina.
Ojo: el medio que fija es el sustrato, no el aire: la condición lleva .
Comprueba Bruggeman en los extremos: con fracción de vidrio 1 tiene que devolver exacto, y con 0, exactamente 1.
Fin del curso 02. Con esto tienes lo que hace falta para no empezar una simulación a ciegas: sabes qué método discretiza qué, qué criterio fija la resolución de cada uno —y, más importante, cuándo ese criterio no es el que manda—, cuánta memoria y cuánto tiempo va a costar antes de lanzarlo, y cómo saber si el número que sale ha convergido a algo o sólo ha dejado de moverse. Sabes multiplicar una matriz característica, presupuestar una FDTD en 2D y en 3D, elegir entre volumen y superficie con un recuento de incógnitas, extrapolar tres rejillas a rejilla cero y reconocer el momento en que un medio efectivo se convierte en una rejilla de difracción.
Lo que queda fuera conviene decirlo: aquí no hay optimización inversa —el diseño fotónico moderno se hace con gradientes adjuntos, no probando geometrías—, ni métodos espectrales para estructuras periódicas (RCWA, el caballo de batalla de la litografía), ni nada sobre la incertidumbre de los datos de material, que en plasmónica suele dominar el error total por encima de cualquier refinamiento de malla.
Y hay una deuda concreta que el curso siguiente cobra. Aquí han aparecido tres veces la polarizabilidad de una esfera, el factor de Clausius-Mossotti y un denominador que puede anularse, y las tres veces se ha pasado de largo diciendo «eso es una resonancia plasmónica». El curso 03, Plasmónica, es lo que hay dentro de ese denominador: de dónde sale la permitividad negativa de un metal, por qué la resonancia concentra el campo en volúmenes cien veces menores que la longitud de onda, cuánto vale esa concentración y qué se puede hacer con ella —detectar una sola molécula, calentar un tumor, medir un nanómetro con color—. Todo lo que aprendiste aquí sobre BEM y campos cercanos era la herramienta; allí está el problema para el que se inventó.